真空镀膜厂家生产设备的配置因工艺流程而异，但一般需要以下几类设备。

1. 真空质量检测仪：用于检测真空质量，如真空度、气体成分等。检测结果可以提供给其他设备参考，以确保设备工作顺畅。

2. 真空泵：用于排出工艺室内气体，保持工艺室真空度。根据不同的需求，可以选择多级旁通油封泵、罗茨泵、干式泵以及分子泵等。

3. 溅射镀膜设备：主要由光源、电源、反应室以及底座、夹具等部分构成。通过电子束或电弧等方式将金属或半导体材料熔化并溅射到基底上，质量均匀且造价较低。

4. 电子束镀膜设备：其主要组成部分为反应室、电子束装置、工业自动化控制系统等。通过电子束使材料加热到蒸发温度，并把蒸汽喷洒在基底上，成膜速度快，精度高，适用于光学功能薄膜和高阶电子元器件等。

5. 等离子体增强化学气相沉积设备：也称作PECVD设备，是通过离子化的气体生成等离子体，并通过化学反应生成膜层。适用于制备功能性涂层，如硅氢化膜、氮化铜等。

6. 磁控溅射设备：真空镀膜厂家直销批发的产品使用恒磁或变磁场将磁性材料熔化，并喷射到基底上。该设备制备的膜层厚度均匀，结构致密，适用于制备光学镜片以及磁盘等。

7. 光谱仪：用于测试薄膜的光学性质、厚度和材料成分。通过反射率、吸收率、折射率等精细定量分析薄膜状况，供质量控制人员进行质量管理。

8. 清洗设备：用于清洗基底和膜层，去除表面杂质。常用的清洗方法包括化学氧化、离子水洗等。

9. 烘烤炉：用于烘干基底及膜层。通过加热基底、膜层达到特定温度，去除水分和有机物质，增强膜层附着力和质量。

10. 处理气体供应器：七彩金属真空镀膜厂家常用的处理气体有氮气、氧气、氩气、氦气、乙炔、氨气等，常用于清洗、备料、反应原料、抽气、保护等。

总之，真空镀膜生产设备种类繁多，每一种设备的特点和应用场景各异，选择合适的设备能够提高生产效率、质量和降低成本。